臺積電副共同營運長張曉強近日在公開場合透露，公司目前沒有采購阿斯麥最新High-NA EUV光刻機的計劃。這一決定主要基于設備成本過高，單臺售價超過3.5億歐元，折合人民幣近28億元，遠超行業現有設備價格水平。
張曉強坦言，新一代光刻機"價格極其昂貴"，而臺積電現有的EUV設備仍能滿足當前生產與研發需求，能夠充分發揮其價值。這款被視為支撐1.4nm及以下先進制程的核心裝備，雖然分辨率和制程能力顯著優于上一代，但成本也同步大幅攀升，價格接近普通EUV設備的1.8倍。
超高定價的原因在于其獨家光學組件、復雜光源系統以及漫長的調試周期。全球范圍內僅有阿斯麥能夠供應這款設備，進一步推高了終端售價。盡管如此，臺積電并未完全放棄這項技術，此前已采購少量設備用于研發，但明確表示不會用于量產。
為了降低對新設備的依賴，臺積電正在通過工藝優化提升競爭力。公司近期公布了A13與N2U兩項新工藝，分別計劃于2029年和2028年投產。這些新工藝旨在不依賴新一代光刻機的情況下，提升芯片能效、縮小芯片面積，同時兼顧成本與性能。
作為阿斯麥的最大客戶，臺積電的暫緩采購決定將對后者產生顯著影響。阿斯麥原本計劃在2027至2028年大規模量產High-NA EUV光刻機，并設定了2030年的營收目標，但如今面臨客戶觀望的挑戰。當前，臺積電面臨較大的資本開支壓力，資金優先投向了3nm產能擴張、2nm研發以及產能布局等關鍵領域。
