7月17日消息，泛林集團、Entegris和三菱化學集團旗下公司Gelest于近日宣布了一項戰略合作，將為全球半導體制造商提供可靠的前體化學品，用于下一代半導體生產所需的、泛林突破性的極紫外(EUV)干膜光刻膠創新技術。三方將合作對未來幾代邏輯和DRAM器件生產所使用的EUV干膜光刻膠技術進行研發，這將有助于從機器學習和人工智能到移動設備所有這些技術的實現。
大的工藝化學品供應鏈對于EUV干膜光刻膠技術運用到量產至關重要。這一新的長期合作將進一步擴大干膜光刻膠技術不斷發展的生態系統，由半導體材料領先者提供雙源供應，保障全球所有市場的持續供應。
此外，泛林、Entegris和Gelest還將攜手合作，加快開發未來用于高數值孔徑(高NA)EUV圖形化的高性價比EUV干膜光刻膠解決方案。高NA EUV被廣泛認為是未來幾十年半導體器件持續微縮和發展所需要的圖形化技術。干膜光刻膠能實現高抗刻蝕性及沉積和顯影所需的可調厚度比例，以支持高NA EUV降低焦深的要求。
